MICRO/NANO FABRICATION
 
 
 
         
 
 
    LOT (Low Temp Oxide : SiO2) 장비를 서비스 합니다.
    2007-07-20   3,570
   
 
  LOT LPCVD 장비를 설치하여 서비스하고 있으니 많은 이용바랍니다,

450도 공정이며, 1 BATCH에 25장 (4인치) 가능합니다.
 
 
  Oxford ICP 수리중입니다.
  Low Stress Nitride 5인치, 6인치 공정 가능 합니다.