MICRO/NANO FABRICATION
[°øÁ¤ »ó´ã ¹× À̿뿡 ´ëÇÑ ¾È³»]
fab
17-09-27
16607
Àåºñ ¿¹¾à ¾È³»
fab
25-12-01
272
ÆÕ¼¾ÅÍ Shutdown ¾È³» (°øÁ¶±â ±³Ã¼ ÀÛ¾÷)
fab
25-11-26
409
ºÎ°¡¼¼ Ãß°¡ ¾È³»
fab
25-10-30
607
27
Fab¼¾ÅÍ ÀÌ¿ëÀڵ鲲,,,(Çʵ¶)
¿î¿µÆÀÀå
06-05-25
5014
26
ÈÞ¹«°ü·Ã °øÁö
¿î¿µÆÀÀå
06-05-25
4727
25
LPCVD (Nitride) Àåºñ °ü·Ã °øÁö
¿î¿µÆÀÀå
06-05-25
4987
24
E-SEM Àåºñ°¡ Set-up µÇ¾ú½À´Ï´Ù,
¿î¿µÆÀÀå
06-05-25
6066
23
Silicon Deep Etching (ICP) 6ÀÎÄ¡ °¡´É
¿î¿µÆÀÀå
06-05-25
5194
22
SEM¼¼¹Ì³ª°¡ 5¿ù17ÀÏ ¼ö¿äÀÏ 2½Ã¿¡ ÀÖ½À´Ï´Ù.
°ü¸®ÀÚ
06-05-15
4906
21
3¿ù27ÀÏ(¿ù¿äÀÏ)12½ÃºÎÅÍ Å©¸°·ë »ç¿ëÀÌ °¡´ÉÇÕ¡¦
°ü¸®ÀÚ
06-03-27
4974
20
Metal Dry Etching °¡´É (Pt,Au,Cr, Al) PZT Et¡¦
¿î¿µÆÀÀå
06-03-24
6702
19
3¿ù27ÀÏ(¿ù¿äÀÏ) Àý¿¬ ÃøÁ¤À¸·Î ÀÎÇØ ÆÕ »ç¿ë±Ý¡¦
°ü¸®ÀÚ
06-03-22
4831
18
LPCVD (Low Stress Nitride) ¼ö¸® ¿Ï·á
¿î¿µÆÀÀå
06-03-09
5360
17
AOE Metal ICP °íÀåÀ¸·Î »ç¿ë ºÒ°¡
º¯È£¹Î
06-02-20
5040
16
Furnace ¼ö¸®¿Ï·á
º¯È£¹Î
06-02-16
4749
15
1¿ù27ÀÏ(±Ý)ºÎÅÍ30ÀÏ(¿ù)±îÁö ÆÕ »ç¿ë±ÝÁö.
°ü¸®ÀÚ
06-01-23
4618
14
1¿ù16ÀÏ Oxford ICP¼ö¸®¿Ï·á
°ü¸®ÀÚ
06-01-16
4678
13
Furnace,LPCVD1 Àåºñ¼ö¸®·ÎÀÎÇØ »ç¿ëºÒ°¡
°ü¸®ÀÚ
05-12-30
4893
11
12
13
14
15
16
17
Á¦¸ñ
³»¿ë
Á¦¸ñ+³»¿ë
and
or