MICRO/NANO FABRICATION
 
 
 
         
 
Àåºñ ¿¹¾à ¾È³» fab 25-12-01 820
27 Fab¼¾ÅÍ ÀÌ¿ëÀڵ鲲,,,(Çʵ¶) ¿î¿µÆÀÀå 06-05-25 5077
26 ÈÞ¹«°ü·Ã °øÁö ¿î¿µÆÀÀå 06-05-25 4788
25 LPCVD (Nitride) Àåºñ °ü·Ã °øÁö ¿î¿µÆÀÀå 06-05-25 5055
24 E-SEM Àåºñ°¡ Set-up µÇ¾ú½À´Ï´Ù, ¿î¿µÆÀÀå 06-05-25 6129
23 Silicon Deep Etching (ICP) 6ÀÎÄ¡ °¡´É ¿î¿µÆÀÀå 06-05-25 5255
22 SEM¼¼¹Ì³ª°¡ 5¿ù17ÀÏ ¼ö¿äÀÏ 2½Ã¿¡ ÀÖ½À´Ï´Ù. °ü¸®ÀÚ 06-05-15 4968
21 3¿ù27ÀÏ(¿ù¿äÀÏ)12½ÃºÎÅÍ Å©¸°·ë »ç¿ëÀÌ °¡´ÉÇÕ¡¦ °ü¸®ÀÚ 06-03-27 5030
20 Metal Dry Etching °¡´É (Pt,Au,Cr, Al) PZT Et¡¦ ¿î¿µÆÀÀå 06-03-24 6755
19 3¿ù27ÀÏ(¿ù¿äÀÏ) Àý¿¬ ÃøÁ¤À¸·Î ÀÎÇØ ÆÕ »ç¿ë±Ý¡¦ °ü¸®ÀÚ 06-03-22 4889
18 LPCVD (Low Stress Nitride) ¼ö¸® ¿Ï·á ¿î¿µÆÀÀå 06-03-09 5425
17 AOE Metal ICP °íÀåÀ¸·Î »ç¿ë ºÒ°¡ º¯È£¹Î 06-02-20 5095
16 Furnace ¼ö¸®¿Ï·á º¯È£¹Î 06-02-16 4804
15 1¿ù27ÀÏ(±Ý)ºÎÅÍ30ÀÏ(¿ù)±îÁö ÆÕ »ç¿ë±ÝÁö. °ü¸®ÀÚ 06-01-23 4673
14 1¿ù16ÀÏ Oxford ICP¼ö¸®¿Ï·á °ü¸®ÀÚ 06-01-16 4737
13 Furnace,LPCVD1 Àåºñ¼ö¸®·ÎÀÎÇØ »ç¿ëºÒ°¡ °ü¸®ÀÚ 05-12-30 4950
 
 
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