MICRO/NANO FABRICATION
 
 
 
         
 
Àåºñ ¿¹¾à ¾È³» fab 25-12-01 2300
27 Fab¼¾ÅÍ ÀÌ¿ëÀڵ鲲,,,(Çʵ¶) ¿î¿µÆÀÀå 06-05-25 5281
26 ÈÞ¹«°ü·Ã °øÁö ¿î¿µÆÀÀå 06-05-25 4968
25 LPCVD (Nitride) Àåºñ °ü·Ã °øÁö ¿î¿µÆÀÀå 06-05-25 5244
24 E-SEM Àåºñ°¡ Set-up µÇ¾ú½À´Ï´Ù, ¿î¿µÆÀÀå 06-05-25 6290
23 Silicon Deep Etching (ICP) 6ÀÎÄ¡ °¡´É ¿î¿µÆÀÀå 06-05-25 5427
22 SEM¼¼¹Ì³ª°¡ 5¿ù17ÀÏ ¼ö¿äÀÏ 2½Ã¿¡ ÀÖ½À´Ï´Ù. °ü¸®ÀÚ 06-05-15 5149
21 3¿ù27ÀÏ(¿ù¿äÀÏ)12½ÃºÎÅÍ Å©¸°·ë »ç¿ëÀÌ °¡´ÉÇÕ¡¦ °ü¸®ÀÚ 06-03-27 5197
20 Metal Dry Etching °¡´É (Pt,Au,Cr, Al) PZT Et¡¦ ¿î¿µÆÀÀå 06-03-24 6925
19 3¿ù27ÀÏ(¿ù¿äÀÏ) Àý¿¬ ÃøÁ¤À¸·Î ÀÎÇØ ÆÕ »ç¿ë±Ý¡¦ °ü¸®ÀÚ 06-03-22 5052
18 LPCVD (Low Stress Nitride) ¼ö¸® ¿Ï·á ¿î¿µÆÀÀå 06-03-09 5586
17 AOE Metal ICP °íÀåÀ¸·Î »ç¿ë ºÒ°¡ º¯È£¹Î 06-02-20 5265
16 Furnace ¼ö¸®¿Ï·á º¯È£¹Î 06-02-16 4990
15 1¿ù27ÀÏ(±Ý)ºÎÅÍ30ÀÏ(¿ù)±îÁö ÆÕ »ç¿ë±ÝÁö. °ü¸®ÀÚ 06-01-23 4852
14 1¿ù16ÀÏ Oxford ICP¼ö¸®¿Ï·á °ü¸®ÀÚ 06-01-16 4940
13 Furnace,LPCVD1 Àåºñ¼ö¸®·ÎÀÎÇØ »ç¿ëºÒ°¡ °ü¸®ÀÚ 05-12-30 5141
 
 
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