MICRO/NANO FABRICATION
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fab
23-12-01
87
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fab
17-09-27
11532
58
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07-10-29
3953
57
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07-10-22
3920
56
Oxford ICP ¼ö¸®¿Ï·á
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07-10-15
3875
55
Oxford ICP ¼ö¸®ÁßÀÔ´Ï´Ù.
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07-10-11
3927
54
AOE Etcher ¼ö¸®¿Ï·áµÇ¾ú½À´Ï´Ù,
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07-10-09
4112
53
°øÁ¶±â Á¡°ËÀ¸·Î 9¿ù 1ÀÏ(Åä)Àº Fab ÃâÀÔÀ» Àü¡¦
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07-08-16
3884
52
Oxford ICP ¼ö¸®ÁßÀÔ´Ï´Ù.
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07-08-16
4149
51
LOT (Low Temp Oxide : SiO2) Àåºñ¸¦ ¼ºñ½º ÇÕ¡¦
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07-07-20
4806
50
Low Stress Nitride 5ÀÎÄ¡, 6ÀÎÄ¡ °øÁ¤ °¡´É ÇÕ¡¦
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07-07-20
4391
49
MA6, PECVD ¿ø³»¿äÀ² º¯°æÀÔ´Ï´Ù.
ÀÌÀç¼ø
07-07-06
4049
48
SEM ¼ö¸®¿Ï·á
°ü¸®ÀÚ
07-06-26
4186
47
E-SEM Àåºñ°íÀåÀ¸·Î ÀÎÇØ »ç¿ëºÒ°¡
°ü¸®ÀÚ
07-06-20
4448
46
LPCVD(NITRIDE) Àåºñ »ç¿ë °¡´É
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07-05-14
4318
45
LPCVD(Nitride) ¼ö¸® ÁßÀÔ´Ï´Ù,
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07-05-02
4589
44
Furnace 6 ÀÎÄ¡ °øÁ¤ °¡´ÉÇÕ´Ï´Ù,
¿î¿µÆÀÀå
07-05-02
4161
11
12
13
14
15
16
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