MICRO/NANO FABRICATION
 
 
 
         
 
Àåºñ Á¡°Ë ¾È³» fab 23-12-01 87
[°øÁ¤ »ó´ã ¹× À̿뿡 ´ëÇÑ ¾È³»] fab 17-09-27 11532
58 10¿ù30ÀÏ(È­¿äÀÏ)¿ÀÀü11½Ã±îÁö ÆÕ»ç¿ë±ÝÁö °ü¸®ÀÚ 07-10-29 3953
57 10¿ù 26ÀÏ Ã¼À°ÀÇ ³¯ °ü·Ã °øÁö»çÇ× ¿î¿µÆÀÀå 07-10-22 3920
56 Oxford ICP ¼ö¸®¿Ï·á ¿î¿µÆÀÀå 07-10-15 3875
55 Oxford ICP ¼ö¸®ÁßÀÔ´Ï´Ù. ÀÌÀç¼ø 07-10-11 3927
54 AOE Etcher ¼ö¸®¿Ï·áµÇ¾ú½À´Ï´Ù, ¿î¿µÆÀÀå 07-10-09 4112
53 °øÁ¶±â Á¡°ËÀ¸·Î 9¿ù 1ÀÏ(Åä)Àº Fab ÃâÀÔÀ» Àü¡¦ ¿î¿µÆÀÀå 07-08-16 3884
52 Oxford ICP ¼ö¸®ÁßÀÔ´Ï´Ù. ¿î¿µÆÀÀå 07-08-16 4149
51 LOT (Low Temp Oxide : SiO2) Àåºñ¸¦ ¼­ºñ½º ÇÕ¡¦ ¿î¿µÆÀÀå 07-07-20 4806
50 Low Stress Nitride 5ÀÎÄ¡, 6ÀÎÄ¡ °øÁ¤ °¡´É ÇÕ¡¦ ¿î¿µÆÀÀå 07-07-20 4391
49 MA6, PECVD ¿ø³»¿äÀ² º¯°æÀÔ´Ï´Ù. ÀÌÀç¼ø 07-07-06 4049
48 SEM ¼ö¸®¿Ï·á °ü¸®ÀÚ 07-06-26 4186
47 E-SEM Àåºñ°íÀåÀ¸·Î ÀÎÇØ »ç¿ëºÒ°¡ °ü¸®ÀÚ 07-06-20 4448
46 LPCVD(NITRIDE) Àåºñ »ç¿ë °¡´É ¿î¿µÆÀÀå 07-05-14 4318
45 LPCVD(Nitride) ¼ö¸® ÁßÀÔ´Ï´Ù, ¿î¿µÆÀÀå 07-05-02 4589
44 Furnace 6 ÀÎÄ¡ °øÁ¤ °¡´ÉÇÕ´Ï´Ù, ¿î¿µÆÀÀå 07-05-02 4161
 
 
   11  12  13  14  15  16  
 
  and or