MICRO/NANO FABRICATION
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LPCVD (Nitride) Àåºñ °ü·Ã °øÁö
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4182
24
E-SEM Àåºñ°¡ Set-up µÇ¾ú½À´Ï´Ù,
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5287
23
Silicon Deep Etching (ICP) 6ÀÎÄ¡ °¡´É
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22
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Metal Dry Etching °¡´É (Pt,Au,Cr, Al) PZT Et¡¦
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LPCVD (Low Stress Nitride) ¼ö¸® ¿Ï·á
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06-03-09
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17
AOE Metal ICP °íÀåÀ¸·Î »ç¿ë ºÒ°¡
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4211
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Furnace ¼ö¸®¿Ï·á
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15
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