MICRO/NANO FABRICATION
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20-03-17
2858
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17-09-27
6906
60
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59
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58
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3378
57
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07-10-22
3379
56
Oxford ICP ¼ö¸®¿Ï·á
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3318
55
Oxford ICP ¼ö¸®ÁßÀÔ´Ï´Ù.
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07-10-11
3334
54
AOE Etcher ¼ö¸®¿Ï·áµÇ¾ú½À´Ï´Ù,
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07-10-09
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53
°øÁ¶±â Á¡°ËÀ¸·Î 9¿ù 1ÀÏ(Åä)Àº Fab ÃâÀÔÀ» Àü¡¦
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07-08-16
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52
Oxford ICP ¼ö¸®ÁßÀÔ´Ï´Ù.
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07-08-16
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51
LOT (Low Temp Oxide : SiO2) Àåºñ¸¦ ¼ºñ½º ÇÕ¡¦
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07-07-20
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50
Low Stress Nitride 5ÀÎÄ¡, 6ÀÎÄ¡ °øÁ¤ °¡´É ÇÕ¡¦
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49
MA6, PECVD ¿ø³»¿äÀ² º¯°æÀÔ´Ï´Ù.
ÀÌÀç¼ø
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48
SEM ¼ö¸®¿Ï·á
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E-SEM Àåºñ°íÀåÀ¸·Î ÀÎÇØ »ç¿ëºÒ°¡
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46
LPCVD(NITRIDE) Àåºñ »ç¿ë °¡´É
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07-05-14
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11
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13
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