MICRO/NANO FABRICATION
ÃÖ÷´Ü Maskless Aligner ½Å±Ô Àåºñ µµÀÔ ¹× °ø¡¦
fab
24-11-06
1184
¿¹¾à ½ºÄÉÁì ¾È³»
fab
24-09-19
1210
[°øÁ¤ »ó´ã ¹× À̿뿡 ´ëÇÑ ¾È³»]
fab
17-09-27
15016
53
°øÁ¶±â Á¡°ËÀ¸·Î 9¿ù 1ÀÏ(Åä)Àº Fab ÃâÀÔÀ» Àü¡¦
¿î¿µÆÀÀå
07-08-16
4436
52
Oxford ICP ¼ö¸®ÁßÀÔ´Ï´Ù.
¿î¿µÆÀÀå
07-08-16
4731
51
LOT (Low Temp Oxide : SiO2) Àåºñ¸¦ ¼ºñ½º ÇÕ¡¦
¿î¿µÆÀÀå
07-07-20
5409
50
Low Stress Nitride 5ÀÎÄ¡, 6ÀÎÄ¡ °øÁ¤ °¡´É ÇÕ¡¦
¿î¿µÆÀÀå
07-07-20
5009
49
MA6, PECVD ¿ø³»¿äÀ² º¯°æÀÔ´Ï´Ù.
ÀÌÀç¼ø
07-07-06
4643
48
SEM ¼ö¸®¿Ï·á
°ü¸®ÀÚ
07-06-26
4809
47
E-SEM Àåºñ°íÀåÀ¸·Î ÀÎÇØ »ç¿ëºÒ°¡
°ü¸®ÀÚ
07-06-20
5053
46
LPCVD(NITRIDE) Àåºñ »ç¿ë °¡´É
¿î¿µÆÀÀå
07-05-14
4910
45
LPCVD(Nitride) ¼ö¸® ÁßÀÔ´Ï´Ù,
¿î¿µÆÀÀå
07-05-02
5189
44
Furnace 6 ÀÎÄ¡ °øÁ¤ °¡´ÉÇÕ´Ï´Ù,
¿î¿µÆÀÀå
07-05-02
4769
43
°øÁö»çÇ×(Çʵ¶)
¿î¿µÆÀÀå
07-04-24
4533
42
4¿ù 3ÀÏ ¿ÀÀü 9½Ã~12½Ã±îÁö Fab¼¾ÅÍ ´©Àü ÃøÁ¤¡¦
¿î¿µÆÀÀå
07-03-30
4695
41
Furnace»ç¿ë°¡´É (¼ö¸®¿Ï·á)
¿î¿µÆÀÀå
07-03-26
4557
40
LPCVD(Low Stress Nitride) Àåºñ »ç¿ë °¡´ÉÇÕ´Ï¡¦
¿î¿µÆÀÀå
07-01-22
5308
39
Furnace »ç¿ë ºÒ´É
¿î¿µÆÀÀå
07-01-17
5007
11
12
13
14
15
16
17
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