MICRO/NANO FABRICATION
 
 
 
         
 
Explorer ȣȯ¼º ¹®Á¦ ÇØ°á ¾È³» fab 22-05-25 1411
[°øÁ¤ »ó´ã ¹× À̿뿡 ´ëÇÑ ¾È³»] fab 17-09-27 9709
64 (Çʵ¶) ¿ÀÈÄ 7½Ã ÀÌÈÄ¿¡´Â Fab¼¾ÅÍ »ç¿ëÀ» ±ÝÇÕ¡¦ ¿î¿µÆÀÀå 08-02-01 3837
63 AOE Etcher °íÀå ¼ö¸®ÁßÀÔ´Ï´Ù. ¿î¿µÆÀÀå 08-01-28 4218
62 AOE Etcher ¼ö¸® ¿Ï·á ¿î¿µÆÀÀå 08-01-03 3689
61 AOE Etcher °íÀåÀ¸·Î »ç¿ë ºÒ°¡ ¿î¿µÆÀÀå 07-12-28 3678
60 12¿ù 31ÀÏ Fab ÃâÀÔÀ» ±ÝÁöÇÕ´Ï´Ù. ÀÌÀç¼ø 07-12-28 3665
59 °³ÀÎ »ç¹°ÇÔ Á¤¸®(Çʵ¶) ¿î¿µÆÀÀå 07-11-20 3958
58 10¿ù30ÀÏ(È­¿äÀÏ)¿ÀÀü11½Ã±îÁö ÆÕ»ç¿ë±ÝÁö °ü¸®ÀÚ 07-10-29 3657
57 10¿ù 26ÀÏ Ã¼À°ÀÇ ³¯ °ü·Ã °øÁö»çÇ× ¿î¿µÆÀÀå 07-10-22 3641
56 Oxford ICP ¼ö¸®¿Ï·á ¿î¿µÆÀÀå 07-10-15 3570
55 Oxford ICP ¼ö¸®ÁßÀÔ´Ï´Ù. ÀÌÀç¼ø 07-10-11 3617
54 AOE Etcher ¼ö¸®¿Ï·áµÇ¾ú½À´Ï´Ù, ¿î¿µÆÀÀå 07-10-09 3787
53 °øÁ¶±â Á¡°ËÀ¸·Î 9¿ù 1ÀÏ(Åä)Àº Fab ÃâÀÔÀ» Àü¡¦ ¿î¿µÆÀÀå 07-08-16 3601
52 Oxford ICP ¼ö¸®ÁßÀÔ´Ï´Ù. ¿î¿µÆÀÀå 07-08-16 3832
51 LOT (Low Temp Oxide : SiO2) Àåºñ¸¦ ¼­ºñ½º ÇÕ¡¦ ¿î¿µÆÀÀå 07-07-20 4501
50 Low Stress Nitride 5ÀÎÄ¡, 6ÀÎÄ¡ °øÁ¤ °¡´É ÇÕ¡¦ ¿î¿µÆÀÀå 07-07-20 4083
 
 
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