MICRO/NANO FABRICATION
 
 
 
         
 
Àåºñ ¿¹¾à ¾È³» fab 25-12-01 1760
57 10¿ù 26ÀÏ Ã¼À°ÀÇ ³¯ °ü·Ã °øÁö»çÇ× ¿î¿µÆÀÀå 07-10-22 4915
56 Oxford ICP ¼ö¸®¿Ï·á ¿î¿µÆÀÀå 07-10-15 4854
55 Oxford ICP ¼ö¸®ÁßÀÔ´Ï´Ù. ÀÌÀç¼ø 07-10-11 4977
54 AOE Etcher ¼ö¸®¿Ï·áµÇ¾ú½À´Ï´Ù, ¿î¿µÆÀÀå 07-10-09 5093
53 °øÁ¶±â Á¡°ËÀ¸·Î 9¿ù 1ÀÏ(Åä)Àº Fab ÃâÀÔÀ» Àü¡¦ ¿î¿µÆÀÀå 07-08-16 4880
52 Oxford ICP ¼ö¸®ÁßÀÔ´Ï´Ù. ¿î¿µÆÀÀå 07-08-16 5122
51 LOT (Low Temp Oxide : SiO2) Àåºñ¸¦ ¼­ºñ½º ÇÕ¡¦ ¿î¿µÆÀÀå 07-07-20 5815
50 Low Stress Nitride 5ÀÎÄ¡, 6ÀÎÄ¡ °øÁ¤ °¡´É ÇÕ¡¦ ¿î¿µÆÀÀå 07-07-20 5406
49 MA6, PECVD ¿ø³»¿äÀ² º¯°æÀÔ´Ï´Ù. ÀÌÀç¼ø 07-07-06 5033
48 SEM ¼ö¸®¿Ï·á °ü¸®ÀÚ 07-06-26 5248
47 E-SEM Àåºñ°íÀåÀ¸·Î ÀÎÇØ »ç¿ëºÒ°¡ °ü¸®ÀÚ 07-06-20 5467
46 LPCVD(NITRIDE) Àåºñ »ç¿ë °¡´É ¿î¿µÆÀÀå 07-05-14 5325
45 LPCVD(Nitride) ¼ö¸® ÁßÀÔ´Ï´Ù, ¿î¿µÆÀÀå 07-05-02 5582
44 Furnace 6 ÀÎÄ¡ °øÁ¤ °¡´ÉÇÕ´Ï´Ù, ¿î¿µÆÀÀå 07-05-02 5169
43 °øÁö»çÇ×(Çʵ¶) ¿î¿µÆÀÀå 07-04-24 4923
 
 
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