MICRO/NANO FABRICATION
KIST Ãß°èüÀ°´ëȸ Çà»ç ¾È³» 2025.10.17 (±Ý¿ä¡¦
fab
25-10-13
377
ÃÖ÷´Ü Maskless Aligner ½Å±Ô Àåºñ µµÀÔ ¹× °ø¡¦
fab
24-11-06
2553
¿¹¾à ½ºÄÉÁì ¾È³»
fab
24-09-19
2334
[°øÁ¤ »ó´ã ¹× À̿뿡 ´ëÇÑ ¾È³»]
fab
17-09-27
16064
54
AOE Etcher ¼ö¸®¿Ï·áµÇ¾ú½À´Ï´Ù,
¿î¿µÆÀÀå
07-10-09
4821
53
°øÁ¶±â Á¡°ËÀ¸·Î 9¿ù 1ÀÏ(Åä)Àº Fab ÃâÀÔÀ» Àü¡¦
¿î¿µÆÀÀå
07-08-16
4591
52
Oxford ICP ¼ö¸®ÁßÀÔ´Ï´Ù.
¿î¿µÆÀÀå
07-08-16
4874
51
LOT (Low Temp Oxide : SiO2) Àåºñ¸¦ ¼ºñ½º ÇÕ¡¦
¿î¿µÆÀÀå
07-07-20
5553
50
Low Stress Nitride 5ÀÎÄ¡, 6ÀÎÄ¡ °øÁ¤ °¡´É ÇÕ¡¦
¿î¿µÆÀÀå
07-07-20
5151
49
MA6, PECVD ¿ø³»¿äÀ² º¯°æÀÔ´Ï´Ù.
ÀÌÀç¼ø
07-07-06
4779
48
SEM ¼ö¸®¿Ï·á
°ü¸®ÀÚ
07-06-26
4954
47
E-SEM Àåºñ°íÀåÀ¸·Î ÀÎÇØ »ç¿ëºÒ°¡
°ü¸®ÀÚ
07-06-20
5193
46
LPCVD(NITRIDE) Àåºñ »ç¿ë °¡´É
¿î¿µÆÀÀå
07-05-14
5056
45
LPCVD(Nitride) ¼ö¸® ÁßÀÔ´Ï´Ù,
¿î¿µÆÀÀå
07-05-02
5336
44
Furnace 6 ÀÎÄ¡ °øÁ¤ °¡´ÉÇÕ´Ï´Ù,
¿î¿µÆÀÀå
07-05-02
4907
43
°øÁö»çÇ×(Çʵ¶)
¿î¿µÆÀÀå
07-04-24
4670
42
4¿ù 3ÀÏ ¿ÀÀü 9½Ã~12½Ã±îÁö Fab¼¾ÅÍ ´©Àü ÃøÁ¤¡¦
¿î¿µÆÀÀå
07-03-30
4821
41
Furnace»ç¿ë°¡´É (¼ö¸®¿Ï·á)
¿î¿µÆÀÀå
07-03-26
4696
40
LPCVD(Low Stress Nitride) Àåºñ »ç¿ë °¡´ÉÇÕ´Ï¡¦
¿î¿µÆÀÀå
07-01-22
5447
11
12
13
14
15
16
17
Á¦¸ñ
³»¿ë
Á¦¸ñ+³»¿ë
and
or