MICRO/NANO FABRICATION
 
 
 
         
 
ÃÖ÷´Ü Maskless Aligner ½Å±Ô Àåºñ µµÀÔ ¹× °ø¡¦ fab 24-11-06 1165
¿¹¾à ½ºÄÉÁì ¾È³» fab 24-09-19 1196
[°øÁ¤ »ó´ã ¹× À̿뿡 ´ëÇÑ ¾È³»] fab 17-09-27 15002
53 °øÁ¶±â Á¡°ËÀ¸·Î 9¿ù 1ÀÏ(Åä)Àº Fab ÃâÀÔÀ» Àü¡¦ ¿î¿µÆÀÀå 07-08-16 4434
52 Oxford ICP ¼ö¸®ÁßÀÔ´Ï´Ù. ¿î¿µÆÀÀå 07-08-16 4729
51 LOT (Low Temp Oxide : SiO2) Àåºñ¸¦ ¼­ºñ½º ÇÕ¡¦ ¿î¿µÆÀÀå 07-07-20 5407
50 Low Stress Nitride 5ÀÎÄ¡, 6ÀÎÄ¡ °øÁ¤ °¡´É ÇÕ¡¦ ¿î¿µÆÀÀå 07-07-20 5008
49 MA6, PECVD ¿ø³»¿äÀ² º¯°æÀÔ´Ï´Ù. ÀÌÀç¼ø 07-07-06 4641
48 SEM ¼ö¸®¿Ï·á °ü¸®ÀÚ 07-06-26 4807
47 E-SEM Àåºñ°íÀåÀ¸·Î ÀÎÇØ »ç¿ëºÒ°¡ °ü¸®ÀÚ 07-06-20 5052
46 LPCVD(NITRIDE) Àåºñ »ç¿ë °¡´É ¿î¿µÆÀÀå 07-05-14 4908
45 LPCVD(Nitride) ¼ö¸® ÁßÀÔ´Ï´Ù, ¿î¿µÆÀÀå 07-05-02 5188
44 Furnace 6 ÀÎÄ¡ °øÁ¤ °¡´ÉÇÕ´Ï´Ù, ¿î¿µÆÀÀå 07-05-02 4767
43 °øÁö»çÇ×(Çʵ¶) ¿î¿µÆÀÀå 07-04-24 4532
42 4¿ù 3ÀÏ ¿ÀÀü 9½Ã~12½Ã±îÁö Fab¼¾ÅÍ ´©Àü ÃøÁ¤¡¦ ¿î¿µÆÀÀå 07-03-30 4694
41 Furnace»ç¿ë°¡´É (¼ö¸®¿Ï·á) ¿î¿µÆÀÀå 07-03-26 4557
40 LPCVD(Low Stress Nitride) Àåºñ »ç¿ë °¡´ÉÇÕ´Ï¡¦ ¿î¿µÆÀÀå 07-01-22 5307
39 Furnace »ç¿ë ºÒ´É ¿î¿µÆÀÀå 07-01-17 5006
 
 
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