MICRO/NANO FABRICATION
 
 
 
         
 
Àåºñ ¿¹¾à ¾È³» fab 25-12-01 883
57 10¿ù 26ÀÏ Ã¼À°ÀÇ ³¯ °ü·Ã °øÁö»çÇ× ¿î¿µÆÀÀå 07-10-22 4775
56 Oxford ICP ¼ö¸®¿Ï·á ¿î¿µÆÀÀå 07-10-15 4737
55 Oxford ICP ¼ö¸®ÁßÀÔ´Ï´Ù. ÀÌÀç¼ø 07-10-11 4839
54 AOE Etcher ¼ö¸®¿Ï·áµÇ¾ú½À´Ï´Ù, ¿î¿µÆÀÀå 07-10-09 4949
53 °øÁ¶±â Á¡°ËÀ¸·Î 9¿ù 1ÀÏ(Åä)Àº Fab ÃâÀÔÀ» Àü¡¦ ¿î¿µÆÀÀå 07-08-16 4721
52 Oxford ICP ¼ö¸®ÁßÀÔ´Ï´Ù. ¿î¿µÆÀÀå 07-08-16 5006
51 LOT (Low Temp Oxide : SiO2) Àåºñ¸¦ ¼­ºñ½º ÇÕ¡¦ ¿î¿µÆÀÀå 07-07-20 5685
50 Low Stress Nitride 5ÀÎÄ¡, 6ÀÎÄ¡ °øÁ¤ °¡´É ÇÕ¡¦ ¿î¿µÆÀÀå 07-07-20 5275
49 MA6, PECVD ¿ø³»¿äÀ² º¯°æÀÔ´Ï´Ù. ÀÌÀç¼ø 07-07-06 4913
48 SEM ¼ö¸®¿Ï·á °ü¸®ÀÚ 07-06-26 5101
47 E-SEM Àåºñ°íÀåÀ¸·Î ÀÎÇØ »ç¿ëºÒ°¡ °ü¸®ÀÚ 07-06-20 5324
46 LPCVD(NITRIDE) Àåºñ »ç¿ë °¡´É ¿î¿µÆÀÀå 07-05-14 5185
45 LPCVD(Nitride) ¼ö¸® ÁßÀÔ´Ï´Ù, ¿î¿µÆÀÀå 07-05-02 5463
44 Furnace 6 ÀÎÄ¡ °øÁ¤ °¡´ÉÇÕ´Ï´Ù, ¿î¿µÆÀÀå 07-05-02 5034
43 °øÁö»çÇ×(Çʵ¶) ¿î¿µÆÀÀå 07-04-24 4798
 
 
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