MICRO/NANO FABRICATION
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fab
17-09-27
16607
Àåºñ ¿¹¾à ¾È³»
fab
25-12-01
273
ÆÕ¼¾ÅÍ Shutdown ¾È³» (°øÁ¶±â ±³Ã¼ ÀÛ¾÷)
fab
25-11-26
412
ºÎ°¡¼¼ Ãß°¡ ¾È³»
fab
25-10-30
608
57
10¿ù 26ÀÏ Ã¼À°ÀÇ ³¯ °ü·Ã °øÁö»çÇ×
¿î¿µÆÀÀå
07-10-22
4703
56
Oxford ICP ¼ö¸®¿Ï·á
¿î¿µÆÀÀå
07-10-15
4668
55
Oxford ICP ¼ö¸®ÁßÀÔ´Ï´Ù.
ÀÌÀç¼ø
07-10-11
4770
54
AOE Etcher ¼ö¸®¿Ï·áµÇ¾ú½À´Ï´Ù,
¿î¿µÆÀÀå
07-10-09
4885
53
°øÁ¶±â Á¡°ËÀ¸·Î 9¿ù 1ÀÏ(Åä)Àº Fab ÃâÀÔÀ» Àü¡¦
¿î¿µÆÀÀå
07-08-16
4655
52
Oxford ICP ¼ö¸®ÁßÀÔ´Ï´Ù.
¿î¿µÆÀÀå
07-08-16
4938
51
LOT (Low Temp Oxide : SiO2) Àåºñ¸¦ ¼ºñ½º ÇÕ¡¦
¿î¿µÆÀÀå
07-07-20
5610
50
Low Stress Nitride 5ÀÎÄ¡, 6ÀÎÄ¡ °øÁ¤ °¡´É ÇÕ¡¦
¿î¿µÆÀÀå
07-07-20
5215
49
MA6, PECVD ¿ø³»¿äÀ² º¯°æÀÔ´Ï´Ù.
ÀÌÀç¼ø
07-07-06
4840
48
SEM ¼ö¸®¿Ï·á
°ü¸®ÀÚ
07-06-26
5026
47
E-SEM Àåºñ°íÀåÀ¸·Î ÀÎÇØ »ç¿ëºÒ°¡
°ü¸®ÀÚ
07-06-20
5256
46
LPCVD(NITRIDE) Àåºñ »ç¿ë °¡´É
¿î¿µÆÀÀå
07-05-14
5117
45
LPCVD(Nitride) ¼ö¸® ÁßÀÔ´Ï´Ù,
¿î¿µÆÀÀå
07-05-02
5395
44
Furnace 6 ÀÎÄ¡ °øÁ¤ °¡´ÉÇÕ´Ï´Ù,
¿î¿µÆÀÀå
07-05-02
4971
43
°øÁö»çÇ×(Çʵ¶)
¿î¿µÆÀÀå
07-04-24
4733
11
12
13
14
15
16
17
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