MICRO/NANO FABRICATION
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fab
25-12-01
2375
57
10¿ù 26ÀÏ Ã¼À°ÀÇ ³¯ °ü·Ã °øÁö»çÇ×
¿î¿µÆÀÀå
07-10-22
4984
56
Oxford ICP ¼ö¸®¿Ï·á
¿î¿µÆÀÀå
07-10-15
4918
55
Oxford ICP ¼ö¸®ÁßÀÔ´Ï´Ù.
ÀÌÀç¼ø
07-10-11
5045
54
AOE Etcher ¼ö¸®¿Ï·áµÇ¾ú½À´Ï´Ù,
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07-10-09
5160
53
°øÁ¶±â Á¡°ËÀ¸·Î 9¿ù 1ÀÏ(Åä)Àº Fab ÃâÀÔÀ» Àü¡¦
¿î¿µÆÀÀå
07-08-16
4960
52
Oxford ICP ¼ö¸®ÁßÀÔ´Ï´Ù.
¿î¿µÆÀÀå
07-08-16
5192
51
LOT (Low Temp Oxide : SiO2) Àåºñ¸¦ ¼ºñ½º ÇÕ¡¦
¿î¿µÆÀÀå
07-07-20
5877
50
Low Stress Nitride 5ÀÎÄ¡, 6ÀÎÄ¡ °øÁ¤ °¡´É ÇÕ¡¦
¿î¿µÆÀÀå
07-07-20
5475
49
MA6, PECVD ¿ø³»¿äÀ² º¯°æÀÔ´Ï´Ù.
ÀÌÀç¼ø
07-07-06
5096
48
SEM ¼ö¸®¿Ï·á
°ü¸®ÀÚ
07-06-26
5313
47
E-SEM Àåºñ°íÀåÀ¸·Î ÀÎÇØ »ç¿ëºÒ°¡
°ü¸®ÀÚ
07-06-20
5529
46
LPCVD(NITRIDE) Àåºñ »ç¿ë °¡´É
¿î¿µÆÀÀå
07-05-14
5393
45
LPCVD(Nitride) ¼ö¸® ÁßÀÔ´Ï´Ù,
¿î¿µÆÀÀå
07-05-02
5647
44
Furnace 6 ÀÎÄ¡ °øÁ¤ °¡´ÉÇÕ´Ï´Ù,
¿î¿µÆÀÀå
07-05-02
5231
43
°øÁö»çÇ×(Çʵ¶)
¿î¿µÆÀÀå
07-04-24
4990
11
12
13
14
15
16
17
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