MICRO/NANO FABRICATION
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fab
17-09-27
12191
61
AOE Etcher °íÀåÀ¸·Î »ç¿ë ºÒ°¡
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07-12-28
4173
60
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ÀÌÀç¼ø
07-12-28
4157
59
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07-11-20
4430
58
10¿ù30ÀÏ(È¿äÀÏ)¿ÀÀü11½Ã±îÁö ÆÕ»ç¿ë±ÝÁö
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07-10-29
4141
57
10¿ù 26ÀÏ Ã¼À°ÀÇ ³¯ °ü·Ã °øÁö»çÇ×
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07-10-22
4108
56
Oxford ICP ¼ö¸®¿Ï·á
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07-10-15
4070
55
Oxford ICP ¼ö¸®ÁßÀÔ´Ï´Ù.
ÀÌÀç¼ø
07-10-11
4137
54
AOE Etcher ¼ö¸®¿Ï·áµÇ¾ú½À´Ï´Ù,
¿î¿µÆÀÀå
07-10-09
4306
53
°øÁ¶±â Á¡°ËÀ¸·Î 9¿ù 1ÀÏ(Åä)Àº Fab ÃâÀÔÀ» Àü¡¦
¿î¿µÆÀÀå
07-08-16
4067
52
Oxford ICP ¼ö¸®ÁßÀÔ´Ï´Ù.
¿î¿µÆÀÀå
07-08-16
4340
51
LOT (Low Temp Oxide : SiO2) Àåºñ¸¦ ¼ºñ½º ÇÕ¡¦
¿î¿µÆÀÀå
07-07-20
5003
50
Low Stress Nitride 5ÀÎÄ¡, 6ÀÎÄ¡ °øÁ¤ °¡´É ÇÕ¡¦
¿î¿µÆÀÀå
07-07-20
4591
49
MA6, PECVD ¿ø³»¿äÀ² º¯°æÀÔ´Ï´Ù.
ÀÌÀç¼ø
07-07-06
4234
48
SEM ¼ö¸®¿Ï·á
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07-06-26
4384
47
E-SEM Àåºñ°íÀåÀ¸·Î ÀÎÇØ »ç¿ëºÒ°¡
°ü¸®ÀÚ
07-06-20
4638
11
12
13
14
15
16
17
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