MICRO/NANO FABRICATION
 
 
 
         
 
 
    LOT (Low Temp Oxide : SiO2) Àåºñ¸¦ ¼­ºñ½º ÇÕ´Ï´Ù.
    2007-07-20   5,407
   
 
  LOT LPCVD Àåºñ¸¦ ¼³Ä¡ÇÏ¿© ¼­ºñ½ºÇϰí ÀÖÀ¸´Ï ¸¹Àº ÀÌ¿ë¹Ù¶ø´Ï´Ù,

450µµ °øÁ¤À̸ç, 1 BATCH¿¡ 25Àå (4ÀÎÄ¡) °¡´ÉÇÕ´Ï´Ù.
 
 
  Oxford ICP ¼ö¸®ÁßÀÔ´Ï´Ù.
  Low Stress Nitride 5ÀÎÄ¡, 6ÀÎÄ¡ °øÁ¤ °¡´É ÇÕ´Ï´Ù.