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[공정 상담 및 이용에 대한 안내]     공정담당 : 남기훈 E-Mail : nkh@kist.re.kr 02)958-6314 ----------------------------------------------------- [공정샘플 보내실 주소] 서울특별시 성북구 화랑로14길 5 한국과학기술연구원(KIST) L6122호 마이크로나노Fab센터 남기훈 ※ 사무실 번호(L6122호) 기재를 꼭 부탁드립니다.

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예약 스케쥴 안내     모든 예약은 공정 1~2일전 예약 원칙입니다. 최근 당일 예약하여 공정 요청하시는 분이 많아졌습니다. 당일 예약하여 당일 공정은 불가하오니 공정 예약시, 참고 바랍니다. 감사합니다. - Micro-nano Fab. Center -

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최첨단 Maskless Aligner 신규 장비 도입 및 공…     신규 장비의 공정 서비스를 실시합니다. Photo Mask 없이 Exposure 할 수 있는 장비 입니다. 설계 도면 File을 Load하여 시료에 패턴을 새기게 됩니다. 많은 관심바랍니다. 1. 장 비 명(모델) : Maskless Aligner (DL-1000) 2. 사용용도 및 범위 ▶ PhotoMask 없이 반도체 표면에 빛을 가하여 회로를 구성하는 노광장비 ▶ GDS file만으로 패턴을 구현할 수 있으며, Alignment 가능 ▶ Loading사이즈:조각(10 x 10㎜) 외, 웨이퍼(4~8 inch) 3. 주요사양 ▶ General spec ⁃ Mirror projection exposure using DMD ⁃ Top & Backside Alignment ⁃ Maximum exposure area : 200 x 200㎜ ⁃ Minimum pixel size : 1㎛ ⁃ Resolution : 2㎛(Positive PR : t≤2㎛) ⁃ Exposure area for each shot : 1.024x0.758㎜ ⁃ Light source : LD (laser diode, 405㎚) ⁃ Dose power : 10W/㎠ or higher (LD)

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