LPCVD (Low Stress Nitride) 수리 완료     2006-03-09   4,817     LPCVD가 수리되었습니다,<br /> <br /> 박막은 KOH Mask용 과 Membrane용 모두 <br /> 가능합니다,<br />  1) KOH E/R=30A/hr, Uniformity 3% 미만.<br />  2) Membrane (Low Stress Nitride), 100MPa이하<br />       3월27일(월요일) 절연 측정으로 인해 팹 사용금지   AOE Metal ICP 고장으로 사용 불가