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최첨단 Maskless Aligner 신규 장비 도입 및 공정 서비스 |
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2024-11-06 |
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1,166 |
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신규 장비의 공정 서비스를 실시합니다.
Photo Mask 없이 Exposure 할 수 있는 장비 입니다.
설계 도면 File을 Load하여 시료에 패턴을 새기게 됩니다.
많은 관심바랍니다.
1. 장 비 명(모델) : Maskless Aligner (DL-1000)
2. 사용용도 및 범위
▶ PhotoMask 없이 반도체 표면에 빛을 가하여 회로를 구성하는 노광장비
▶ GDS file만으로 패턴을 구현할 수 있으며, Alignment 가능
▶ Loading사이즈:조각(10 x 10㎜) 외, 웨이퍼(4~8 inch)
3. 주요사양
▶ General spec
⁃ Mirror projection exposure using DMD
⁃ Top & Backside Alignment
⁃ Maximum exposure area : 200 x 200㎜
⁃ Minimum pixel size : 1㎛
⁃ Resolution : 2㎛(Positive PR : t≤2㎛)
⁃ Exposure area for each shot : 1.024x0.758㎜
⁃ Light source : LD (laser diode, 405㎚)
⁃ Dose power : 10W/㎠ or higher (LD)
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