MICRO/NANO FABRICATION
 
 
 
         
 
[°øÁ¤ »ó´ã ¹× ÀÌ¿ë¿¡ ´ëÇÑ ¾È³»] fab 17-09-27 12235
61 AOE Etcher °íÀåÀ¸·Î »ç¿ë ºÒ°¡ ¿î¿µÆÀÀå 07-12-28 4180
60 12¿ù 31ÀÏ Fab ÃâÀÔÀ» ±ÝÁöÇÕ´Ï´Ù. ÀÌÀç¼ø 07-12-28 4170
59 °³ÀÎ »ç¹°ÇÔ Á¤¸®(Çʵ¶) ¿î¿µÆÀÀå 07-11-20 4440
58 10¿ù30ÀÏ(È­¿äÀÏ)¿ÀÀü11½Ã±îÁö ÆÕ»ç¿ë±ÝÁö °ü¸®ÀÚ 07-10-29 4153
57 10¿ù 26ÀÏ Ã¼À°ÀÇ ³¯ °ü·Ã °øÁö»çÇ× ¿î¿µÆÀÀå 07-10-22 4118
56 Oxford ICP ¼ö¸®¿Ï·á ¿î¿µÆÀÀå 07-10-15 4081
55 Oxford ICP ¼ö¸®ÁßÀÔ´Ï´Ù. ÀÌÀç¼ø 07-10-11 4151
54 AOE Etcher ¼ö¸®¿Ï·áµÇ¾ú½À´Ï´Ù, ¿î¿µÆÀÀå 07-10-09 4316
53 °øÁ¶±â Á¡°ËÀ¸·Î 9¿ù 1ÀÏ(Åä)Àº Fab ÃâÀÔÀ» Àü¡¦ ¿î¿µÆÀÀå 07-08-16 4078
52 Oxford ICP ¼ö¸®ÁßÀÔ´Ï´Ù. ¿î¿µÆÀÀå 07-08-16 4351
51 LOT (Low Temp Oxide : SiO2) Àåºñ¸¦ ¼­ºñ½º ÇÕ¡¦ ¿î¿µÆÀÀå 07-07-20 5011
50 Low Stress Nitride 5ÀÎÄ¡, 6ÀÎÄ¡ °øÁ¤ °¡´É ÇÕ¡¦ ¿î¿µÆÀÀå 07-07-20 4599
49 MA6, PECVD ¿ø³»¿äÀ² º¯°æÀÔ´Ï´Ù. ÀÌÀç¼ø 07-07-06 4243
48 SEM ¼ö¸®¿Ï·á °ü¸®ÀÚ 07-06-26 4397
47 E-SEM Àåºñ°íÀåÀ¸·Î ÀÎÇØ »ç¿ëºÒ°¡ °ü¸®ÀÚ 07-06-20 4648
 
 
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