MICRO/NANO FABRICATION
LOT (Low Temp Oxide : SiO2) 장비를 서비스 합니다.
2007-07-20
5,900
LOT LPCVD 장비를 설치하여 서비스하고 있으니 많은 이용바랍니다,
450도 공정이며, 1 BATCH에 25장 (4인치) 가능합니다.
Oxford ICP 수리중입니다.
Low Stress Nitride 5인치, 6인치 공정 가능 합니다.